四氟化碳供應(yīng)商-譜純氣體|氣源充足(在線咨詢)：

四氟化碳物理性質(zhì) :

   熔點(diǎn)-183.6℃，

   分子式是CF4,

　　沸點(diǎn)-128.1℃，

　　液體密度(-130℃)1.613g/cm3，

　　液體折光率(-173℃)1.515，

　　固體轉(zhuǎn)變點(diǎn)72.2K，

　　臨界溫度-45.67℃，

　　臨界壓力3.73MPa，

   蒸氣壓（-150.7℃）13.33kPa

  介電常數(shù)（25℃，0.5MPa）1.0006

　　臨界密度：7.1dm3/mol

　　標(biāo)準(zhǔn)摩爾自由能：-929.84 kJ/mol

　　標(biāo)準(zhǔn)摩爾生成自由能：-887.41 kJ/mol

   危險(xiǎn)性類(lèi)別：第2.2類(lèi)不燃?xì)怏w

由碳與氟反應(yīng)，或一氧1化碳與氟反應(yīng)，或碳化硅與氟反應(yīng)，或氟石與石油焦在電爐里反應(yīng)，或二氟二氯甲1烷與氟化1氫反應(yīng)，或四氯化1碳與氟化銀反應(yīng)，或四氯1化碳與氟化1氫反應(yīng)，都能生成四氟化1碳。吸入四氟1化碳的后果與濃度有關(guān)，包括頭1痛、惡心、頭昏眼花及心1血管系統(tǒng)的破壞(主要是心臟)。長(zhǎng)時(shí)間接觸會(huì)導(dǎo)致嚴(yán)重的心臟破壞。對(duì)于硅和二氧化硅體系，采用CF4-O2反應(yīng)離子刻蝕時(shí)，通過(guò)調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時(shí)很有用。

四氟化碳（CF4）在電離后會(huì)產(chǎn)生含成分的刻蝕性氣相等離子體，能夠?qū)Ω鞣N有機(jī)表面實(shí)現(xiàn)刻蝕及有機(jī)物去除，在晶圓制造、線路板制造、太陽(yáng)能電池板制造等行業(yè)中被廣泛應(yīng)用。以活性炭與氟為原料經(jīng)氟化反應(yīng)制備。在裝有活性炭的反應(yīng)爐中，緩緩?fù)ㄈ敫邼夥鷼猓⑼ㄟ^(guò)加熱器加熱、供氟速率和反應(yīng)爐冷卻控制反應(yīng)溫度。四氟化碳是一種鹵代烴，化學(xué)式CF4。它既可以被視為一種鹵代烴、全氟化碳，也可以被視為一種無(wú)機(jī)化合物。零下198 °C時(shí)，四氟化碳具有單斜的結(jié)構(gòu)，晶格常數(shù)為a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1?nm), β = 118.73° 。

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